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Additive Process Using Femto-second Laser for Manufacturing Three-dimensional Nano/Micro-structures
Yang. Dong-Yol, Lim. Tae-Woo, Son. Yong, Kong. Hong-Jin, Lee. Kwang-Sup, Kim. Dong-Pyo, Park. Sang-Hu 한국정밀공학회 International journal of precision engineering and manufacturing 7 Pages
한국정밀공학회 International journal of precision engineering and manufacturing 2007, Vol.8 No.4 63-69 (7 pages)
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Femto Second Laser Pulse에 의한 유리의 결정화 및 기계적 특성
차재민, 문필용, 김동현, 박성제, 조성학, 류봉기, Cha. Jae-Min, Moon. Pil-Yong, Kim. Dong-Hyun, Park. Sung-Je, Cho. Sung-Rak, Ryu. Bong-Ki 한국세라믹학회 한국세라믹학회지 7 Pages
한국세라믹학회 한국세라믹학회지 2005, Vol.42 No.6 377-383 (7 pages)
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Laser Microfabrication for Silicon Restrictor
Kim. Kwang-Ryul, Jeong. Young-Keun 한국분말야금학회 한국분말야금학회지 7 Pages
한국분말야금학회 한국분말야금학회지 2008, Vol.15 No.1 46-52 (7 pages)
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펨토초 레이저를 이용한 평판 디스플레이 유리기판 절단 연구
김광열, Kim. Kwang-Ryul 한국재료학회 한국재료학회지 6 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 2008, Vol.18 No.5 247-252 (6 pages)
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펨토초 레이저 어블레이션을 이용한 Si 웨이퍼의 미세 관통 홀 가공
김주석, 심형섭, 이성혁, 신영의, Kim. Joo-Seok, Sim. Hyung-Sub, Lee. Seong-Hyuk, Shin. Young-Eui 한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 8 Pages
한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 2007, Vol.14 No.3 29-36 (8 pages)
본 논문에서는 펨토초 레이저를 사용하여 정밀하고 효과적인 레이저 어블레이션 작업이 가능한지를 확인하기위한 수치 해석 및 가공 작업을 수행하였다. 이를 위하여 Si 재료 내부의 에너지 전달 메커니즘에 대한 수치해석을 실시하였으며, Si 웨이퍼에 각각 다른 조건으로 적용된 레이저 플루언스 값으로 $100;{mu}m$ 직경의 미세 관통 홀을 형성한 후, 광학현미경과 3차원 표면 형상 측정 장비를 사용하여 형성된 미세 관통 홀의 가공성과 열영향부의 발생 정도를 관찰하고 분석하였다. 실험 결과를 통해 레이저 플루언스 조건에 따른... -
펨토초 레이저의 이송속도에 따른 Invar 합금의 어블레이션 특성
정일영, 강경호, 김재도, 손익부, 노영철, 이종민, Chung. Il-Young, Kang. Kyung-Ho, Kim. Jae-Do, Sohn. Ik-Bu, Noh. Young-Chul, Lee. Jong-Min 한국정밀공학회 한국정밀공학회지 7 Pages
한국정밀공학회 한국정밀공학회지 2009, Vol.26 No.3 25-31 (7 pages)
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나노 복화공정의 역방향 적층법을 이용한 직접적 나노패턴 생성에 관한 연구
박상후, 임태우, 양동열, 공홍진 한국정밀공학회 한국정밀공학회지 7 Pages
한국정밀공학회 한국정밀공학회지 2004, Vol.21 No.6 153-159 (7 pages)
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펨토초 레이저 주입잠금법을 이용한 광주파수 빗의 모드 선택과 증폭
문한섭, 김억봉, 박상언, 박창용, Moon. H.S., Kim. E.B., Park. S.E., Park. C.Y. 한국광학회 한국광학회지 5 Pages
한국광학회 한국광학회지 2006, Vol.17 No.3 268-272 (5 pages)
펨토초 레이저 주입잠금법을 이용하여 펨토초 광주파수 벗에서 특정한 주파수 모드를 선택하고 증폭시켰다. 실험에서는 모드 잠금된 Ti:sapphire레이저를 지배 레이저로 그리고 단일모드로 발진하는 반도체 레이저를 종속 레이저로 사용하였다. 모드 잠금된 Ti:sapphire레이저를 중심파장 794.7 nm, 밴드 폭 1.5 nm의 간섭필터를 통과한 후 반도체 레이저에 주입잠금시켰다. 주입잠금된 반도체 레이저가 모드 잠금된Ti:sapphire레이저의 펄스 반복율과 일치하는 100.5 MHz간격의 모드 $3{sim}4$개가 동시에 발진되는 것 확인할 수 있었다.... -
진공 압력차이법에 의한 나노 정밀도를 가지는 폴리디메틸실록산 형상복제
박상후, 임태우, 양동열, 공홍진, 이광섭 한국고분자학회 폴리머 9 Pages
한국고분자학회 폴리머 2004, Vol.28 No.4 305-313 (9 pages)
본 연구는 나노 복화공정을 이용하여 마이크로 혹은 나노공정에 응용이 가능한 형상모형 제작공정 개발과 폴리디메틸실록산 (polydimethylsiloxane)를 이용하여 만들어진 형상모형의 몰드로 나노급 정밀도의 폴리디메틸실록산 형상을 복제하는 공정에 관한 것이다. 본 연구에서 제안한 나노 복화공정은 복잡한 형상모형 (pattern)이나 2차원 형상을 CAD 파일 없이 비트맵 그림파일을 이용하여 직접적으로 200nm 정밀도를 가지는 형상으로 만들 수 있다. 형상모형은 펨토초 레이저를 이용하여 이광자 흡수 중합법으로 제작하기 때문에...