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간행물
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- 대한기계학회론문집. TRANSACTIONS OF THE KOREAN SOCIETY OF MECHANICAL ENGINEERS. A. A(1)
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Effect on 4H-SiC Schottky Rectifiers of Ar Discharges Generated in A Planar Inductively Coupled Plasma Source
Jung. P.G., Lim. W.T., Cho. G.S., Jeon. M.H., Lee. J.W., Nigam. S., Ren. F., Chung. G.Y., Macmillan. M.F., Pearton. S.J. 대한전자공학회 Journal of semiconductor technology and science 6 Pages
대한전자공학회 Journal of semiconductor technology and science 2003, Vol.3 No.1 21-26 (6 pages)
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The Dry Etching Characteristics of TiO2 Thin Films in N2/CF4/Ar Plasma
Choi. Kyung-Rok, Woo. Jong-Chang, Joo. Young-Hee, Chun. Yoon-Soo, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 5 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2014, Vol.15 No.1 32-36 (5 pages)
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The Dry Etching of TiN Thin Films Using Inductively Coupled CF4/Ar Plasma
Woo. Jong-Chang, Choi. Chang-Auck, Joo. Young-Hee, Kim. Han-Soo, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2013, Vol.14 No.2 67-70 (4 pages)
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The Use of Inductively Coupled CF4/Ar Plasma to Improve the Etch Rate of ZrO2 Thin Films
Kim. Han-Soo, Woo. Jong-Chang, Joo. Young-Hee, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2013, Vol.14 No.1 12-15 (4 pages)
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Etch Properties of HfO2 Thin Films using CH4/Ar Inductively Coupled Plasma
Woo. Jong-Chang, Kim. Gwan-Ha, Kim. Dong-Pyo, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 5 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2007, Vol.8 No.6 229-233 (5 pages)


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