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PECVD에 의한 YSZ(Yttria Stabilized Zirconia)박막 제조
김기동, 신동근, 조영아, 전진석, 최동수, 박종진, Kim. Gi-Dong, Sin. Dong-Geun, Jo. Yeong-A, Jeon. Jin-Seok, Choe. Dong-Su, Park. Jong-Jin 한국재료학회 한국재료학회지 6 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 1999, Vol.9 No.3 234-239 (6 pages)
PECVD(Plasma enhanced chemical vapor deposition)을 이용하여 yttria-stabilized zirconia(YSZ) 박막을 제조하였다. 반응물질로 금속유기화합물을 $Zr[TMHD]_4$와 $Y[TMHD]_3$그리고 산소를 사용하였으며, 증착온도는 $425^{circ}C$, rf power는 0~100W까지 적용하였다. YSZ 박막은 (200)면이 기판에 평행한 입벙정상 구조를 가졌으며, 1시간 내에 $1mu extrm{m}$ 두께를 형성하였다. EDX에 의한 막의 성분분석 결과로부터 환산된 박막내의 $Y_2O_3$의 함량은 0-36%의 범위였다. 버블러의 온도 및 운반기체의 유량이 증가함에 따라... -
플라즈마 침적에 의한 핵열료 제조에 미치는 변수들의 영향
정인하, 배기광, Jeong. In-Ha, Bae. Gi-Gwang 한국재료학회 한국재료학회지 8 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 1998, Vol.8 No.9 783-790 (8 pages)
비슷한 yttria-stabilized-zirconia ($ extrm{ZrO}_{2}$-$ extrm{Y}_{2} extrm{O}_{3}$)분말을 유도플라즈마(induction plasma)로 용융 침적시켜 원자력발전용 핵연료펠렛 제조공정에 응용하고자 하였다. 분말의 용융정도는 플라즈마동력 및 분말의 크기에 영향을 받는 것으로 나타났으며, 쉬스가스 조성, 분말분사관 위치, 입자크기 및 분사거리 등을 최적화 하여 Ar/$ extrm{H}_{2}$유량120/20$ell$/min, 플리즈마 동력 80KW, 분사관의위치 8cm , 챔버압력 200Torr, 분사거리 18cm에서 이론밀도의 97.91%, 침적속도 20mm/min의... -
VCR 헤드 제조시 $SiO_2$박막과 유리의 계면 결함
윤능구, 황재웅, 고경현, 안재환, 제해준, 홍국선, Yun. Neung-Gu, Hwang. Jae-Ung, Go. Gyeong-Hyeon, An. Jae-Hwan, Je. Hae-Jun, Hong. Guk-Seon 한국재료학회 한국재료학회지 6 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 1994, Vol.4 No.1 31-36 (6 pages)
생성원인이 $SiO_{2}$ 증착층과 접합유리의 융착시 계면에 존재하는 요철의 불완전한 충진에 의한 것으로 나타났다. 따라서 이러한 기포생성을 억제시키는 위해서는 기판을 최대한 경면 연마시켜 표면조도를 작게하고 $SiO_{2}$증착속도를 조절함으로써 $SiO_{2}$증착층의 표면조도를 작게하여 유리 융착시 계변의 요철 크기를 작게해야 한다. 기판을 0.05$mu extrm{m}$알루미나 분말로 경면연마시키고, 10% Osub 2/분압을 갖는 Ar plasma상태하로 조절된 증착속도로 즈악된 $SiO_{2}$증착층과 접합유리의 융착시 기포가 전혀 발생치... -
광도파로 제작을 위한 단결정 LiNbO3 건식 식각 특성
박우정, 양우석, 이한영, 윤대호, Park. Woo-Jung, Yang. Woo-Seok, Lee. Han-Young, Yoon. Dae-Ho 한국세라믹학회 한국세라믹학회지 5 Pages
한국세라믹학회 한국세라믹학회지 2005, Vol.42 No.4 232-236 (5 pages)
$LiNbO_{3}$ optical waveguide 구조를 neutral loop discharge plasma 방법으로 식각시 As과 $C\_{3}F_{8}$가 혼합된 가스 유량에 따른 식각속도와 표면조도 값의 특성을 관찰하였다. 식각 후 식각속도와 식각단면은 scanning electron microscopy로 비교 분석하였으며, 표면조도는 atomic force microscopy로 측정하였다. Ar과 $C_{3}F_{8}$가 혼합된 가스 유량비를 각각 0.1-0.5로 증가시킴에 따라 식각속도와 표면조도는 0.2에서 가장 높게 나타났으며, bias power를 증가함에 따라 300W에서 가장 우수한 식각속도와 가장 평탄한 표면... -
플라즈마 처리에 의한 폴리메틸펜텐 막의 $CO_2/N_2$ 혼합가스의 투과특성
배성렬, 전성우, 곽현 한국막학회 멤브레인 8 Pages
한국막학회 멤브레인 2003, Vol.13 No.2 73-80 (8 pages)
NH_3$ 플라즈마로 표면 처리하고, 처리 전후의 투과 도와 선택도의 변화를 관찰하였다. Ar 플라즈마로 처리하였을 때 O/C의 비율이 증가하며 친수성기 (OH, COOH, C=O)의 도입이 확인되었고 $NH_3$ 플라즈마로 처리하였을 때 아민, 아미노기가 도입되었다. 플라즈마 처리된 폴리메틸펜텐막에서 $CO_2$의 투과도와 $N_2$,에 대한 선택도 (Actual Separation Factor)의 최적조건은 Ar 플라즈마 처리 (30 W-6 min)의 경우 각각 182 Barrer ［$10^{-10};cm^3(STP)cm/cm^2$.s.cmHg］와 6.17이며, $NH_3$, 플라즈마 처리 (30 W-8 min)의 경우... -
4-point bending test system을 이용한 Cu-Cu 열 압착 접합 특성 평가
김재원, 김광섭, 이학주, 김희연, 박영배, 현승민, Kim. Jae-Won, Kim. Kwang-Seop, Lee. Hak-Joo, Kim. Hee-Yeon, Park. Young-Bae, Hyun. Seung-Min 한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 8 Pages
한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 2011, Vol.18 No.4 11-18 (8 pages)
$250^{circ}C$, $300^{circ}C$, $350^{circ}C$에서 각각 $1.38{pm}1.06$(상한값), $7.91{pm}0.27$(하한값), $10.36{pm}1.01$(하한값) $J/m^2$으로 접합온도 $300^{circ}C$ 이상에서 계면접착에너지 5 $J/m^2$ 이상의 값을 얻었다. 접합 온도 $300^{circ}C$ 이하 낮은 온도에서 접합하기 위해 Cu-Cu 열 압착 접합 전 Ar+$H_2$ 플라즈마로 $200^{circ}C$에서 2분간 표면 전처리 후 $250^{circ}C$ 조건에서 열 압착 접합할 경우 계면접착에너지 값이 $6.59${pm}0.03$(하한값) $J/m^2$로 표면 전 처리하지 않은 시험편에 비해 접합 특성이... -
PECVD로 증착된 불화 유기박막의 특성 평가
김준성, 김태곤, 박진구, 신형재 한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 6 Pages
한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 2001, Vol.8 No.2 31-36 (6 pages)
표면의 친수성 (hydrophilicity)과 소수성(hydrophobicity) 정도를 관찰하였다. Ar을 첨가한 경우 Ar 첨가량과 power의 증가에 따라 정접촉각의 감소를 관찰하였다. 그러나 증착압력이 증가함에 따라 정접촉각이 증가하였다. Ar 첨가시 2 Torr이상의 증착압력에서 분말형태의 초소수성 불화 유기박막을 얻을 수 있었다. $O_2$를 첨가한 경우, $O_2$의 첨가량과 증착압력이 증가함에 따라 정접촉각은 감소하였다. 약 100W까지의 power에서는 정접촉각은 일정하였지만 power의 증가에 따라 정접촉각은 감소하여 200W에서는 천수성표면을... -
다양한 표면개질을 이용한 폴리에테르설폰 막의 친수성 향상
박소정, 황준석, 최원길, 이형근, 허강무, Park. So Jung, Hwang. Jun Seok, Choi. Won-Kil, Lee. Hyung Keun, Huh. Kang Moo 한국고분자학회 폴리머 8 Pages
한국고분자학회 폴리머 2014, Vol.38 No.2 205-212 (8 pages)
친수성 향상을 위한 개질 방법으로 산처리, 블렌딩 및 플라즈마 처리를 통해 표면개질을 하였고, 표면 특성을 비교하였다. PES 평막 표면의 특성 변화는 ATR-FTIR, XPS, SEM 및 접촉각 측정을 통해 관찰하였다. 황산을 이용한 산처리 방법과 양친매성 고분자를 이용한 블렌딩 방법에 의해 개질된 PES 평막에서는 접촉각의 변화가 크지 않았다. Ar 플라즈마 처리를 한 경우, 플라스마 처리 시간이 증가함에 따라 PES 표면의 친수성이 크게 증가하는 것을 확인할 수 있었다. 본 결과를 통해 다양한 표면개질 방법 중 플라즈마 방법을... -
폴리프로필렌 복합소재의 아르곤 플라즈마 처리로 표면층 제거와 젖음성 향상
원종일, 이선용, Weon. Jong-Il, Lee. Sun-Yong 한국고분자학회 폴리머 9 Pages
한국고분자학회 폴리머 2012, Vol.36 No.4 461-469 (9 pages)
시간의 증가는 폴리프로필렌 복합소재 표면의 젖음성, 극성 관능기를 갖는 산소 성분, 탈크 함량 및 표면조도의 증가를 초래하였다. 주사 전자 현미경 분석을 통한 자세한 관찰은 폴리프로필렌 성분으로 구성된 표면층(skin layer)이 존재함을 확인하였다. 폴리프로필렌과 고무 입자간의 점도차는 표면층의 생성을 촉진시켰다. 하지만 Ar 플라즈마 처리시간의 증가는 표면층의 두께를 감소시키는 것을 확인하였다. 사출성형 공정 동안, 표면층을 제거할 수 있는 추가적인 방법론에 대해서도 토의하였다. Ar 플라즈마 처리에 의한 표면... -
폴리에틸렌 표면에 글리시딜메타크릴레이트의 플라즈마 유도 그래프트 공중합
김지은, 류욱연, 최호석, 김재하, 박한오, Kim. Ji-Eun, Liu. Xuyan, Choi. Ho-Suk, Kim. Jae-Ha, Park. Han-Oh 한국고분자학회 폴리머 8 Pages
한국고분자학회 폴리머 2012, Vol.36 No.2 137-144 (8 pages)
RF-power, 플라즈마 처리시간, Ar의 유량, 처리 시편의 이동속도를 변화시켜 PE의 표면을 플라즈마 처리하고, 처리된 각 시편들의 접촉각 측정과 표면자유에너지 계산을 통하여 최적의 플라즈마 표면처리 조건을 구하였다. 그 결과 최적 표면처리 조건은 RF-power 200W, 플라즈마 처리시간 600 sec, Ar 유량 5 LPM, 처리 시편의 이동속도 20 mm/sec 이었다. 이 조건하에서 처리된 PE 표면에 GMA를 최대한 많이 도입하기 위하여 GMA 농도와 반응온도, 반응시간을 변수로 그래프트 공중합을 수행하였다. 반응전후 시편의 질량차이 분석을...