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Spatiotemporal Behavior of the Excited Xe Atom Density in the $1s_5$ Metastable State According to the Hoof-type Electrode Structure in an Alternating-current Plasma Display Pane
Kim. Yong-Hee, Hong. Young-June, Choi. Joon-Ho, Cho. Byeong-Seong, Uhm. Han-Sub, Choi. Eun-Ha 한국정보디스플레이학회 Journal of information display 5 Pages
한국정보디스플레이학회 Journal of information display 2010, Vol.11 No.4 149-153 (5 pages)
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Dry Etching Properties of HfAlO3 Thin Film with Addition O2 gas Using a High Density Plasma
Woo. Jong-Chang, Lee. Yong-Bong, Kim. Jeong-Ho 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 6 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2014, Vol.15 No.3 164-169 (6 pages)
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TYNGSTEN ETCHBACK PROCESS FOR SUB-HALF MICRON CONTACTS USING HELICON HIGH DENSITY PLASMA
Kwon. O.Sung, Choi. Chang-Ju, Lee. Seoung-Wook, Seol. Yeo-Song, Baik. Ki-Ho 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials 6 Pages
한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials 1995, Vol.2 761-766 (6 pages)
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Relationships of Plasma and Very Low Density Lipoprotein Lipids and Subfractions with Abdominal Fat in Chickens
Loh. Teck Chwen, Tan. Bee Koon, Foo. Hooi Ling, Norhani. Abdullah, Zulkifli. Idrus 아세아태평양축산학회 Asian-Australasian journal of animal sciences 6 Pages
아세아태평양축산학회 Asian-Australasian journal of animal sciences 2011, Vol.24 No.1 82-87 (6 pages)
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Spatial Distribution of Electron Number Density in an Inductively Coupled Plasma
최범석, Choi. Beom Suk 대한화학회 대한화학회지 6 Pages
대한화학회 대한화학회지 1986, Vol.30 No.3 327-332 (6 pages)
유도결합 플라스마 공간내의 전자밀도를 측정하였다. 전자밀도의 측정시 유도결합 플라스마의 작동조건은, (1) 냉각기체만 사용할 때, (2) 냉각기체와 운반기체만을 사용할 때, (3) 보통의 작동조건은, 즉 에아로졸을 포함한 운반기체를 사용할 때, (4) 약 88%의 에아로졸을 제거시켰을 때, 그리고 (5) 과량의 리튬을 주입시켰을 때로서 분류하였다. 보통의 작동조건에서 플라스마의 낮은 부분에서는 전자밀도가 상당히 감소하여 플라스마내의 가장 전자밀도가 큰 곳보다 약 80배 감소하였다. 이온화 방해영향을 일으키는 알칼리금속을...