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펨토초 레이저 주입잠금법을 이용한 광주파수 빗의 모드 선택과 증폭
문한섭, 김억봉, 박상언, 박창용, Moon. H.S., Kim. E.B., Park. S.E., Park. C.Y. 한국광학회 한국광학회지 5 Pages
한국광학회 한국광학회지 2006, Vol.17 No.3 268-272 (5 pages)
펨토초 레이저 주입잠금법을 이용하여 펨토초 광주파수 벗에서 특정한 주파수 모드를 선택하고 증폭시켰다. 실험에서는 모드 잠금된 Ti:sapphire레이저를 지배 레이저로 그리고 단일모드로 발진하는 반도체 레이저를 종속 레이저로 사용하였다. 모드 잠금된 Ti:sapphire레이저를 중심파장 794.7 nm, 밴드 폭 1.5 nm의 간섭필터를 통과한 후 반도체 레이저에 주입잠금시켰다. 주입잠금된 반도체 레이저가 모드 잠금된Ti:sapphire레이저의 펄스 반복율과 일치하는 100.5 MHz간격의 모드 $3{sim}4$개가 동시에 발진되는 것 확인할 수 있었다.... -
진공 압력차이법에 의한 나노 정밀도를 가지는 폴리디메틸실록산 형상복제
박상후, 임태우, 양동열, 공홍진, 이광섭 한국고분자학회 폴리머 9 Pages
한국고분자학회 폴리머 2004, Vol.28 No.4 305-313 (9 pages)
본 연구는 나노 복화공정을 이용하여 마이크로 혹은 나노공정에 응용이 가능한 형상모형 제작공정 개발과 폴리디메틸실록산 (polydimethylsiloxane)를 이용하여 만들어진 형상모형의 몰드로 나노급 정밀도의 폴리디메틸실록산 형상을 복제하는 공정에 관한 것이다. 본 연구에서 제안한 나노 복화공정은 복잡한 형상모형 (pattern)이나 2차원 형상을 CAD 파일 없이 비트맵 그림파일을 이용하여 직접적으로 200nm 정밀도를 가지는 형상으로 만들 수 있다. 형상모형은 펨토초 레이저를 이용하여 이광자 흡수 중합법으로 제작하기 때문에...