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Accurate Measurement of Arsenic in Laver by Gravimetric Standard Addition Method Combined with High Resolution Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry
Lee. Kyoung-Seok, Kim. Hyeon-Ji, Yim. Yong-Hyeon, Kim. Jeongkwon, Hwang. Euijin 한국질량분석학회 Mass spectrometry letters 5 Pages
한국질량분석학회 Mass spectrometry letters 2014, Vol.5 No.2 57-61 (5 pages)
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Accurate Measurement of Isotope Amount Ratios of Lead in Bronze with Multicollector Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry
Lee. Kyoung-Seok, Kim. Jin-Il, Yim. Yong-Hyeon, Hwang. Euijin, Kim. Tae Kyu 한국질량분석학회 Mass spectrometry letters 4 Pages
한국질량분석학회 Mass spectrometry letters 2013, Vol.4 No.4 87-90 (4 pages)
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Determination of Mercury in Fly Ash by Using Flow Injection Cold Vapor Isotope Dilution Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry
Suh. Jung-Ki, Min. Hyung-Sik, Kamruzzaman. Mohammad, Lee. Sang-Hak 한국질량분석학회 Mass spectrometry letters 4 Pages
한국질량분석학회 Mass spectrometry letters 2012, Vol.3 No.2 58-61 (4 pages)
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Isotope Measurement of Uranium at Ultratrace Levels Using Multicollector Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry
Oh. Seong-Y., Lee. Seon-A., Park. Jong-Ho, Lee. Myung-Ho, Song. Kyu-Seok 한국질량분석학회 Mass spectrometry letters 4 Pages
한국질량분석학회 Mass spectrometry letters 2012, Vol.3 No.2 54-57 (4 pages)
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실리카 도파로(Silica Waveguide) 제작을 위한 Inductively Coupled Plasma에 의한 산화막 식각특성 연구
박상호, 권광호, 정명영, 최태구 한국진공학회 韓國眞空學會誌 6 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 1997, Vol.6 No.3 287-292 (6 pages)
본 실험은 고밀도 플라즈마원인 inductively coupled plasma(ICP)를 이용하여 실리카 도파로의 코아를 형성하고자 하였다. $CF_4/CHF_3$유량비, bias power 및 source power 등의 변화에 따른 산화막의 식각 특성 즉 식각 속도, 식각 단면 및 식각된 표면의 거칠기 등의 변화를 검토하였다. 또한 single Langmuir probe 및 optical emission spectroscopy(OES)를 이용하여, 식각 변수에 따른 ICP의 플라즈마 특성을 관찰하였다. 이상의 결과를 토대로, $SiO_2-P_2O_5$로 구성된 실리카 도파로의 코아(core)층을 형성하였고, 이때... -
Inductively Coupled Plasma에 의한 fluorocarbon 가스 플라즈마의 실리카 표면 반응 연구
박상호, 신장욱, 정명, 최태구, 권광호 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 5 Pages
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 1998, Vol.11 No.6 472-476 (5 pages)
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The Fabrication of an Applicative Device for Trench Width and Depth Using Inductively Coupled Plasma and the Bulk Silicon Etching Process
Woo. Jong-Chang, Choi. Chang-Auck, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 6 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2014, Vol.15 No.1 49-54 (6 pages)
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The Dry Etching of TiN Thin Films Using Inductively Coupled CF4/Ar Plasma
Woo. Jong-Chang, Choi. Chang-Auck, Joo. Young-Hee, Kim. Han-Soo, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2013, Vol.14 No.2 67-70 (4 pages)
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The Use of Inductively Coupled CF4/Ar Plasma to Improve the Etch Rate of ZrO2 Thin Films
Kim. Han-Soo, Woo. Jong-Chang, Joo. Young-Hee, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2013, Vol.14 No.1 12-15 (4 pages)
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Dry Etching Properties of TiO2 Thin Film Using Inductively Coupled Plasma for Resistive Random Access Memory Application
Joo. Young-Hee, Woo. Jong-Chang, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 5 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2012, Vol.13 No.3 144-148 (5 pages)
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Dry Etching Characteristics of ZnO Thin Films for the Optoelectronic Device by Using Inductively Coupled Plasma
Joo. Young-Hee, Woo. Jong-Chang, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2012, Vol.13 No.1 6-9 (4 pages)
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The Dry Etching Properties on TiN Thin Film Using an N2/BCl3/Ar Inductively Coupled Plasma
Woo. Jong-Chang, Joo. Young-Hee, Park. Jung-Soo, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2011, Vol.12 No.4 144-147 (4 pages)
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Etching Characteristics of HfAlO3 Thin Films Using an Cl2/BCl3/Ar Inductively Coupled Plasma
Ha. Tae-Kyung, Woo. Jong-Chang, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2010, Vol.11 No.4 166-169 (4 pages)
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Dry Etching of Al2O3 Thin Films in O2/BCl3/Ar Inductively Coupled Plasma
Yang. Xeng, Woo. Jong-Chang, Um. Doo-Seung, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2010, Vol.11 No.5 202-205 (4 pages)
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Analysis of Novel Helmholtz-inductively Coupled Plasma Source and Its Application for Nano-Scale MOSFETs
Park. Kun-Joo, Kim. Kee-Hyun, Lee. Weon-Mook, Chae. Hee-Yeop, Han. In-Shik, Lee. Hi-Deok 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 5 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2009, Vol.10 No.2 35-39 (5 pages)
