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80Ni-20Fe Permalloy 박모 동시석출 기구에 관한 전기화학적 고찰
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  • 80Ni-20Fe Permalloy 박모 동시석출 기구에 관한 전기화학적 고찰
저자명
이경고,강탁,라경용
간행물명
금속표면처리
권/호정보
1982년|15권 1호|pp.11-18 (8 pages)
발행정보
한국표면공학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

80% Ni-Permalloy is soft magnetic material with high initial permeability and low magnetic coercive force Hc, and is used to computer memory cores and minirelays of communication e-ngineering. In this paper 80 Permalloy thin film on copper cathode was alloy-deposited from Watts so-lution contatining FeSO4$.$7H2O. The amount of FeSO4$.$7H2O in the solution, pH, temperature of the solution and plating current density were varied as parameters and the resulting comp-osition changes of deposited film were analyzed electrochemically with respect to the parame-ters. From the above procedure electroplating conditions for deposition of 80 Permalloy were est-ablished as following: 17-21 g/$ell$ of FeSO4$.$7H2O in Watts solution, current density 1.0-2.0 Amp/dm2, pH 2.5-3.0 and temperature range of 50-60$^{circ}C$.