- 저자-빔 Lithography 근접효과에 대한 노출강도 분포의 최적화법
- ㆍ 저자명
- 손상희,곽계달
- ㆍ 간행물명
- 電子工學會誌
- ㆍ 권/호정보
- 1985년|22권 5호|pp.87-92 (6 pages)
- ㆍ 발행정보
- 대한전자공학회
- ㆍ 파일정보
- 정기간행물| PDF텍스트
- ㆍ 주제분야
- 기타
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전자빔 노광에서 근접효과를 보상하는데 필요한 EID 함수를 간단히 구하는 방법을 제시하였다. 최적화기법을 사용하여 EID함수의 파라메타를 구하였고 그 결과는 실험치와 잘 일치하였다.
A simple method to derive EID function which is necessary to compensate for the pro-ximity effect in electron-beam lithography is presented. Using optimization techniques, parameters of EID function is derived and well agreed with experimental valuta.