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THE EFFECT OF PULSE CURRENT ON THE CURRENT EFFICIENCY OF CHROMIUM PLATING IN SRHS BATH
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  • THE EFFECT OF PULSE CURRENT ON THE CURRENT EFFICIENCY OF CHROMIUM PLATING IN SRHS BATH
  • THE EFFECT OF PULSE CURRENT ON THE CURRENT EFFICIENCY OF CHROMIUM PLATING IN SRHS BATH
저자명
Han. S.H,Kwon. S.C.
간행물명
금속표면처리
권/호정보
1986년|19권 2호|pp.59-64 (6 pages)
발행정보
한국표면공학회
파일정보
정기간행물|ENG|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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영문초록

SRHS(Self-Regulating High Speed) 크롬도금욕을 사용하여 도금욕온도 10-80$^{circ}C$, 전류밀도 0-400A/$dm^2$의 직류전해도금에서의 전류효율 및 표면광택을 조사하였으며, 동이도금욕 조건에서 펄스 주파수 10-100,000Hz의 펄스전해도금 경우와 비교검토하여 다음과 같은 결론을 얻었다. (1) 20$^{circ}C$의 욕온도의 경우 5-100Hz의 주파수의 펄스전해도금에서 직류전해도금보다 40%의 높은 전류효율 값을 나타내었다. (2) 75$^{circ}C$의 욕온도에서는 10-100,000Hz의 전주파수 범위와 25$^{circ}C$에서는 500Hz이상의 주파수 범위에서 펄스 전해도금의 전류효율은 직류전해 도금보다 낮은 값을 보였다. (3) 직류 전해도금조건에서 광택 및 반광택 표면은 펄스 전해도금으로 무광택으로 변하며, 펄스 주파수가 10,000Hz이상되면 직류전해 도금의 동일 표면광택을 다시 나타났다.

기타언어초록

Pulse current was empolyed to the chromium electroplating bath of self-regulating high speed in the following range of conditions; 10-80$^{circ}C$, 0-400A/$dm^2$, 10-100KHz. The current efficiency was compared with that of a conventional direct current plating in respect of current density and electrode interdistance. The effect of pulse current was found to increase the current efficiency at least 10-20 percent more than the conventional direct current plating in the high current density more than 100A/$dm^2$ and at 3-4mm of electrode interdistance. The surface appearance was also studied and known to be of great influenced by pulse frequency.