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Physical Vapour Deposition Fundamentals and Technical Aspects
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저자명
Juhn. Hermann A.
간행물명
금속표면처리
권/호정보
1988년|21권 3호|pp.114-129 (16 pages)
발행정보
한국표면공학회
파일정보
정기간행물|ENG|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

The principles of the physical vapour deposition processes(PVC); evaporation, sputting, and ion plating are presented and compared with each other with respect to coating properties, deposition rate and process control. The significance of coating sources and vacuum equipment for hard materials coating is discussed.