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황산크륨(III) 착화합물 스용액으로부터의 크롬전착반응의 전기화학적 거동
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  • 황산크륨(III) 착화합물 스용액으로부터의 크롬전착반응의 전기화학적 거동
저자명
고석수,송진태
간행물명
금속표면처리
권/호정보
1988년|21권 4호|pp.160-167 (8 pages)
발행정보
한국표면공학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

Electrochemical behaviors od chromium electrodeposition from 0.05M chromium (III) sulface complexes in aqueous solutions using sodium formate-glycine mixtures as a complexing agent were studied. In the cathodic current-potential cures, it is found that the intial limiting current of Cr(III) is proportional to square root of scan rate and activiation energy from Arrhenius plot is s obtained 3.05Kcal/mol. From this results, the reaction is considered, Cr3++e longrightarrow Cr2+, which is controlled diffusion of Cr (III). It is also found that the chromium is deposited when the potential reaches to hydrogen evolution potential. Effects of NaSCN as a catalyser in the electrolyte were investigated NCS- anion seems to react strongly by specific absorption at the inner HelmholtZ layer, so that, it is considered to suppress the electrodeposition reaction reaction for chromjum, and also it is considered multipe-bridge such as Cr(III)-NCS---M(M;cathode).