In situ on-axis rf magnetron sputtering 방법으로 $Y_1$B$a_2$C${u_4};{_2O_x}$의 비화학 양론적인 타게트를 사용하여 $T_c$, $_{zero}$/-88.2K, ${Delta}{T_c}$, <1.5K의 고온초전도 박막을 제조하고, 활성이온식각법으로 이 박막을 patterning하여 그 특성을 조사하였다. 제조된 패턴은 깨끗한 경계면을 가지고 있음이 관찰되었으며, 패턴 폭이 5${mu}$m에서 2${mu}$m로 좁아짐에 따라 임계온도와 임계전류밀도의 특성저하가 나타났으나, 그 저하폭이 크지 않아 소자로서 응용하기에 충분한 특성을 가지고 있음을 확인하였다. 한편 RIE방법에 의하여 미크론 이하의 선폭 제조가능성을 확인하였다.
Abstract We have fabricated Y-Ba-Cu-O superconducting thin films by in-situ on-axis rf magnetron sputtering method using $Y_1$B$a_2$C${u_4};{_2O_x}$ nonstoichiometric target. Reactive ion etching (RIE) method was used in patterning the films. We have investigated the properties of patterned films, and compared the properties of the films before and after patterning. As the line width of the pattern decreases from 5${mu}$m to 2${mu}$m, a slight but not significant degradation in superconducting properties of the patterned films is observed. The bridge patterns are found to have clean edges and good electrical properties enough to be applied in device applications. From the result of this research, the possibility of submicron patterning by RlE is confirmed.
