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Photoresist 용융법을 이용한 미세렌즈 행렬 제작
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  • Photoresist 용융법을 이용한 미세렌즈 행렬 제작
저자명
주영구,송현우,이용희,송석호
간행물명
한국광학회지
권/호정보
1994년|5권 2호|pp.298-303 (6 pages)
발행정보
한국광학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

두꺼운 Photoresist(PR)로 원기둥 모양을 만들고 이를 용융함으로써 미세렌즈 행렬을 제작하였다. 이 방법으로 직경 $25mu extrm{m}$, $50mu extrm{m}$, $100mu extrm{m}$의 렌즈를 만들고 전자주사현미경과 탐침형 표면측정기를 통해 그 모양을 확인하였다. 그리고 렌즈의 광학적 성능을 측정하기 위해 위상변이 간섭법을 사용하여 평행광의 렌즈 통과 후 파면을 구하였다. 여기서 기준 구면과의 파면오차를 구하여 렌즈 초점거리나 초점광도분포 등을 얻었다. 그 결과 직경 $100mu extrm{m}$, 초점거리 $164mu extrm{m}$의 미세렌즈는 초점의 spot 직경이 $25mu extrm{m}$보다 작은 것으로 측정되었다.

기타언어초록

Microlens arrays are fabricated by melting "islands" of thick photoresist on a glass substrate. Microlenses with diameters $25mu extrm{m}$, $50mu extrm{m}$, $100mu extrm{m}$are made. Their surface profiles are obtained by a scanning electron microscope and a mechanical surface profilometer. The wavefront of the microlenses is measured by phase-shifting techniques using a Mach-Zehnder-like configuration. Thereby wavefront errors, focal lengths. point spread functions are obtained. The microlens with the diameter of $100mu extrm{m}$ has focal length of $164mu extrm{m}$ and spot diameter is less than $5mu extrm{m}$.</TEX>.