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Zr/Si 다층박막에서의 고상반응에 의한 비정질상과 결정상의 생성 및 상전이
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  • Zr/Si 다층박막에서의 고상반응에 의한 비정질상과 결정상의 생성 및 상전이
저자명
심재엽,지응준,곽준섭,최정동,백홍구,Sim. Jae-Yeop,Ji. Eung-Jun,Gwak. Jun-Seop,Choe. Jeong-Dong,Baek. Hong-Gu
간행물명
한국재료학회지
권/호정보
1994년|4권 5호|pp.493-501 (9 pages)
발행정보
한국재료학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

DSC와 XRD를 사용하여 Zr/Si 다층박막의 고상반응에 의한 비정질상과 결정상 생성 및 상전이를 확인하고 이를 유효구동력 개념과 유효생성열 개념 및 phase determining factor(PDF)모델을 이용하여 예측한 결과와 비교하였다. Zr/Si 다층박막은 비정질호 반응이 잘 일어났으며 이는 유효구동력 개념으로 예측한 바와 일치하였다. Zr/Si 계에서 생성되는 최초의 결정상은 ZrSi 였으며 유효생성열과 PDF모델로부터 예측된 최초의 결정상은 PDF 모델의 예측 결과와 일치하였다. Zr/Si 다층박막의 원자조성비가 1대 1일경우와 1대 2일 경우의상전이는 ZrSi$longrightarrow$$ZrSi_{2}$로 되었으며 이러한 상전이 과정은 유효생성열 다이아그램으로 해석되었다. ZrSi의 생성기구는 핵생성이 율속임을 규명하였고 ZrSi와 $ZrSi_{2}$의 생성에 필요한 활성화에너지는 1.64$pm$0.19eV와 2.28$pm$0.36eV이었다.