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강유전체 표시기용 고전압 비정질 실리콘 박막트렌지서트의 온도변화 특성
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  • 강유전체 표시기용 고전압 비정질 실리콘 박막트렌지서트의 온도변화 특성
  • Temperature dependent characteristics of HVTFT for ferroelectric display
저자명
이우선,김남오,이경섭
간행물명
電氣電子材料學會誌= The journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
권/호정보
1996년|9권 6호|pp.558-563 (6 pages)
발행정보
한국전기전자재료학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

We fabricated high voltage hydrogenerated amorphous silicon thin film transistors (a Si:H HVTFT) and investigated its temperature dependent characteristics of from 303 K to 363 K. The results show that the drain current was decreased at low gate voltage and increased at high gate voltage exponentially. According to the increasing the thickness of a Si layer, drain current increased. Difference of drain current at 363 K was increasd at the lower gate voltage and decreased at the higher gate voltage. When the drain and gate voltage of 100 V applied, the drain current increased linearly with rise temperature.