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비정질 $As_{10}Ge_{15}Te_{75}$박막의 D.C. 스위칭 임계전압 특성
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  • 비정질 $As_{10}Ge_{15}Te_{75}$박막의 D.C. 스위칭 임계전압 특성
  • The characteristics of D.C. switching threshold voltage for amorphous $As_{10}Ge_{15}Te_{75}$ thin film
저자명
이병석,이현용,이영종,정홍배
간행물명
電氣電子材料學會誌= The journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
권/호정보
1996년|9권 8호|pp.813-818 (6 pages)
발행정보
한국전기전자재료학회
파일정보
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주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

Amorphous As$_{10}$Ge$_{15}$ Te$_{75}$ device shows the memory switching characteristics under d.c. bias. In bulk material, a-As$_{10}$Ge$_{15}$ Te$_{75}$ switching threshold voltage (V$_{th}$) is very high (above 100 volts), but in the case of thin film, V$_{th}$ decreases to a few or ten a few volts. The characteristics of V$_{th}$ depends on the physical dimensions such as the thickness of thin film and the separation between d.c. electrodes, and the annealing conditions. The switching threshold voltage decreases exponentially with increasing annealing temperature and annealing time, but increases linearly with the thickness of thin film and exponentially with increasing the separation between d.c. electrodes. The desirable low switching threshold voltage, therefore, can be obtained by the stabilization through annealing and changing physical dimensions.imensions.sions.