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전기적 착색 텅스텐 산화물 박막의 화학적 안정성
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  • 전기적 착색 텅스텐 산화물 박막의 화학적 안정성
저자명
이길동,Lee. G.D.
간행물명
태양에너지
권/호정보
1996년|16권 2호|pp.87-96 (10 pages)
발행정보
한국태양에너지학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

아르곤-산소분위기에서 텅스텐산화물 표적을 사용한 rf 마그네트론 스파타링 방법으로 전기적 착색 텅스텐산화물 박막이 ITO가 피복된 유리기판 위에 제작되었다. 사파타링에 의한 제작 조건 중 특히 기판온도가 막의 화학적 안정성에 미치는 영향이 연구되었다. 박막은 리듐퍼코로라이트와 황산 전해질 속에서 전기화학적으로 이온의 주입과 추출 과정이 반복되었으며 또한 착색성을 나타내었다. 착색성을 나타낸 텅스텐 산화물박막들 중에서 기판 온도가 $150^{circ}C$에서 제작된 막의 내구성이 가장 안정되었다.

기타언어초록

Electochromic tungsten oxide thin films were prepared on the ITO coated glass by rf magnetron sputtering from a compressed powder tungsten oxide target in an argonoxygen atmosphere. The influence of the preparation conditions, especially the substrate temperature, on the chemical stability of film was investigated. These films were cycled in 0.6M $LiClO_4$ and 0.6M $H_2SO_4$ electrolyte respecitively, and exhibited electrochromic behavior upon the electrochemical insertion and extraction of ion. Among these tungsten oxide thin films, films prepared at a substrate temperature of $150^{circ}C$ were found to be most stable in terms of cyclic durability.