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Preparation of ferroelectric SrBi2Ta2O9 thin films deposited by multi-target sputtering
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  • Preparation of ferroelectric SrBi2Ta2O9 thin films deposited by multi-target sputtering
  • Preparation of ferroelectric SrBi2Ta2O9 thin films deposited by multi-target sputtering
저자명
Hoon. Yang-Cheol,Gil. Yoon-Soon
간행물명
The Journal of Korean vacuum science & technology
권/호정보
1998년|2권 2호|pp.92-96 (5 pages)
발행정보
한국진공학회
파일정보
정기간행물|ENG|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

Ferroelectric Bi-layered oxides SrBi2Ta2O9 (SBT) thin films have been deposited on Pt/Ti/SiO2/Si substrates using multi-target sputtering. Structure, composition, and electrical properties have been investigated on films. The SBT films were deposited with the various bismuth sputtering powers. The SBT films deposited with the bismuth sputtering power of 20 W have the most dense microstructure and the remanent polarization (Pr) of 9.2 ${mu}$C/cm and the coercive field (Ec) of 43.8 kV/cm at an applied voltage of 5V. The SBT films deposited with the bismuth sputtering power of 20W showed a fatigue-free characteristics up to 1.0${ imes}$1010 cycles under 5V bipolar pulse and a leakage current density of 2.0${ imes}$10-8 A/$ extrm{cm}^2$ at 200 kV/cm.