(100), (111), (211)CdZnTe 기판 및 (100)GaAs 기판위에 HgCdTe 박막을 MOVPE 법으로 성장하였다. 기판의 방위에 따라 성장된 박막의 표면형상, 전기적 특성, 결정성 및 조성의 변화를 분석하였다. (111) CdZnTe 기판 위에서는 3차원적인 facet 형태의 성장이 일어났다. (100) CdZnTe 기판 위에 성장된 HgCdTe 박막의 경우 DCX반치폭은 55arcsec 정도로 125 arcsec의 반치폭을 보인 (100) GaAs에 비하여 우수한 결정성을 나타내었다. 그러나 전기적인 특성은 GaAs 기판의 경우, 이동도가 높은 n-형 전도성을 보였으나 CdZnTe 기판을 사용한 경우에는 1016㎤ 이상의 운반자 농도를 갖는 p-형 전도성을 나타내었다.
HgCdTe films were grown on the (100). (111), (211) CdZnTe, and (100) GaAs substrates by metal organic chemical vapor epitaxy. We have investigated the surface morphology, electrical properties, crystalline qualities, and composition of HgCdTe with substrates orientation. Three dimensional facet growth was occurred on (111) CdZnTe substrate. The crystalline quality of HgCdTe on (100) CdZnTe was superior to that of HgCdTe on (100) GaAs. FWHM values of double crystal x-ray diffraction of HgCdTe on (100) CdZnTe and (100) GaAs were 55 and 125arcsec, respectively. HgCdTe on GaAs substrate showed n-type conductivity with high mobility, however, HgCdTe on CdZnTe showed p-type conductivity with carrier concentration of higher than 1016㎤.
