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페닐기로 치환된 Methoxysilane의 CVD에 의한 실리카 분리막의 제조 및 $CO_2$ 분리
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  • 페닐기로 치환된 Methoxysilane의 CVD에 의한 실리카 분리막의 제조 및 $CO_2$ 분리
저자명
김성수,서봉국,이윤복,박홍채,김태옥,Kim. Seong-Su,Seo. Bong-Guk,Lee. Yun-Bok,Park. Hong-Chae,Kim. Tae-Ok
간행물명
한국재료학회지
권/호정보
2001년|11권 7호|pp.622-624 (3 pages)
발행정보
한국재료학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

The CVD film of methoxysilane derived from diphenyldimethoxysilane(DPDMS) was formed on the outer surface of a porous ${alpha}-alumina$ support tube coated(via dipping-drying-calcining) with a boehmite sol(0.3 mol-Al/L). The resulting silica membrane($500^{circ}C,;P_{fe};=;130;Pa$) showed a permeance of $5.18{ imes}10^{-8};mol;{cdot};m^{-2}{cdot}s^{-1}{cdot}Pa^{-1};for;CO_2$ and a permselectivity of 13.35 for $CO_2/N_2;at;30^{circ}C$.