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mm-wave용 전력 PHEMT제작 및 특성 연구
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  • mm-wave용 전력 PHEMT제작 및 특성 연구
저자명
이성대,채연식,윤관기,이응호,이진구,Lee. Seong-Dae,Chae. Yeon-Sik,Yun. Gwan-Gi,Lee. Eung-Ho,Lee. Jin-Gu
간행물명
電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체
권/호정보
2001년|38권 6호|pp.383-389 (7 pages)
발행정보
대한전자공학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

본 논문에서는 밀리미터파 대역에서 응용 가능한 AIGaAs/InGaAs PHEMT를 제작하고 특성을 분석하였다. 제작에 사용된 PHEMT 웨이퍼는 ATLAS 시뮬레이터를 이용하여 DC 및 RF 특성을 최적화 하였다. 게이트 길이가 0.35 ㎛이고 서로 다른 게이트 폭과 게이트 핑거 수를 갖는 PHEMT를 전자빔 노광장치를 이용하여 제작하였다. 제작된 소자의 게이트 길이와 핑거수에 따른 RF 특성변화를 측정 분석하였다. 게이트 핑거 수가 2개인 PHEMT의 DC 특성으로 1.2 V의 무릎 전압, -1.5 V의 핀치-오프 전압, 275 ㎃/㎜의 드레인 전류 밀도 및 260.17 ㎳/㎜의 최대 전달컨덕턴스를 얻었다. 또한 RF 특성으로 35 ㎓에서 3.6 ㏈의 S21 이득, 11.15 ㏈의 MAG와 약 45 ㎓의 전류 이득 차단 주파수 그리고 약 100 ㎓의 최대 공진주파수를 얻었다.

기타언어초록

We report on the design, fabrication, and characterization of 0.35${mu}{ extrm}{m}$-gate AIGaAs/InGaAs PHEMTs for millimeter-wane applications. The epi-wafer structures were designed using ATLAS for optimum DC and AC characteristics, 0.351m-gate AIGaAs/rnGaAs PHEMTs having different gate widths and number of fingers were fabricated using electron beam lithography Dependence of RF characteristics of PHEMT on gate finger with and number of gate fingers have been investigated. PHEMT haying two 0.35$ imes$60${mu}{ extrm}{m}$$^2$ gate fingers showed the knee voltage, pinch-off voltage, drain saturation current density, and maximum transconductance of 1.2V, -1.5V, 275㎃/mm, and 260.17㎳/mm, respectively. The PHEMT showed fT(equation omitted)(current gain cut-off frequency) of 45㎓ and fmax(maximum oscillation frequency) of 100㎓. S$_{21}$ and MAG of the PHEMT were 3.6dB and 11.15dB, respectively, at 35㎓