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Integration Process and Reliability for $SrBi_2$ $Ta_2O_9$-based Ferroelectric Memories
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  • Integration Process and Reliability for $SrBi_2$ $Ta_2O_9$-based Ferroelectric Memories
  • Integration Process and Reliability for $SrBi_2$ $Ta_2O_9$-based Ferroelectric Memories
저자명
Yang. B.,Lee. S.S.,Kang. Y.M.,Noh. K.H.,Hong. S.K.,Oh. S.H.,Kang. E.Y.,Lee. S.W.,Kim. J.G.,Shu. C.W.,Seong. J.W.,Lee. C.G.,Kang.
간행물명
Journal of semiconductor technology and science
권/호정보
2001년|1권 3호|pp.141-157 (17 pages)
발행정보
대한전자공학회
파일정보
정기간행물|ENG|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

Highly reliable packaged 64kbit ferroelectric memories with $0.8{;}mu extrm{m}$ CMOS ensuring ten-year retention and imprint at 125^{circ}C$ have been successfully developed. These superior reliabilities have resulted from steady integration schemes free from the degradation, due to layer stress and attacks of process impurities. The resent results of research and development for ferroelectric memories at Hynix Semiconductor Inc. are summarized in this invited paper.