본 논문에서는 해프톤 패턴 간섭 분석을 통해 모아레 패턴을 효과적으로 제거할 수 있는 새로운 모아레 영역 평활화 방법을 제시한다. 제안한 방법에서는 픽셀의 화소값을 이용하여 모아레 패턴의 세기를 결정하고 그 세기에 따라 평활화 정도를 적응적으로 조정해 주기 때문에, 모아레 패턴을 효과적으로 제거하면서 경계나 텍스쳐 같은 의미 있는 고주파 성분도 효과적으로 보존할 수 있다. 또한 기존의 블록기반 퓨리에 변환 방법과 달리, 미리 만들어진 테이블을 참조하는 과정만으로 모아레 패턴의 세기를 결정하기 때문에 연산 시간측면에서도 효율적이다. 제안한 방법은 칼라 인쇄물을 다루는 다양한 멀티미디어 분야에서 유용하게 활용될 수 있다.
In this paper, we propose a new smoothing method for removing moire patterns using analysis of halftone patterns interference. The proposed method can determine a strength of moire patterns by using gray values of pixels and the size of smoothing mask for moire region is adjusted adaptively according to the strength of moire patterns. Therefore it can remove moire patterns effectively and preserve meaningful high frequencies well, such as edges and textures. The proposed method only refer to predefined lookup table to determine the strength of moire patterns, so it is more efficient than a previous work based on FFT of subblock. It could be applied to field of various multimedia applications that deal with color prints.
