이 논문에서 개별 관측치를 이용한 Shewhart 관리도와 CRL 관리도로 이루어지는 수정된 합성 관리도를 구성한다. Shewhart X 관리도를 적용하여 관리한계선을 벗어나지 않으면 CRL 관리도를 적용하여 한 번 더 공정의 이상유무를 판단하는 2중 감지 공정관리기법을 고려한다. 합성 관리도에서 공정변화를 지적하는 감지력으로 평균 런의 길이()를 이용한다. 논문에서 제안된 수정된 합성 관리도는 We와 Spedding(2000a)이 제안한 합성 관리도와 Shewhart X 관리도보다 우수하며, EWM 관리도와는 성능면에서 매우 유사하다. 또한 공정변화가 0.75$sigma$보다 클 때는 수정된 합성 관리도가 우수하다는 것을 확인할수 있다. 제시된 X-CRL 관리도를 평가하기 위해 조건부 확률을 계산하여 기존의 관리도와 비교한다.
This paper presents a adjustment synthetic control chart that is an integration of the Shewhart X chart and the conforming run length(CRL) chart. The application of the adjustment synthetic control chart my therefore substantially enhance the effectiveness process control for manufacturing. In the synthetic control chart, denotes the average number of the X sample required to detect a process shift. The synthetic control chart outperforms the EWM chart and the X chart when σ is greater than 0.75σ. And the X-CRL charts suggested above evaluate using the conditional probability.
