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R.F. Magnetron Sputtering법을 이용한 ITO 박막 오존 가스센서의 제조 및 특성
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  • R.F. Magnetron Sputtering법을 이용한 ITO 박막 오존 가스센서의 제조 및 특성
저자명
권정범,정경근,이동수,하조웅,유광수,Kwon. Jung-Bum,Jung. Kyoung-Keun,Lee. Dong-Su,Ha. Jo-Woong,Yoo. Kwang-Soo
간행물명
한국세라믹학회지
권/호정보
2002년|39권 9호|pp.840-845 (6 pages)
발행정보
한국세라믹학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

오존 가스센서는 저가이고 휴대 및 사용이 간편하며 감도가 높고 우수한 선택성을 지닌 반도체식 가스센서가 대안으로 부각되고 있다. 본 연구에서는 R.F. magnetron sputtering법을 이용하여 ITO($In_2O_3 95%,;SnO_2$ 5%) 박막을 알루미나 기판위에 증착시켰다. 증착시 기판온도는 300$^{circ}C$와 500$^{circ}C$였고, 시편의 일부를 공기중 500$^{circ}C$에서 4시간 동안 열처리하였다. ITO 가스 감지막은 열처리 전${cdot}$후 모두 결정을 형성하였다. 오존 가스에 대한 감도측정 결과, 300$^{circ}C$에서 증착한 다음 열처리한 센서에서 가장 높은 감도(1 ppm이하 감지 가능)를 나타내었다. 작동온도가 높을수록 감도는 줄어들었지만 빠른 응답 특성과 안정성을 가졌다.

기타언어초록

As an ozone gas sensor, the semiconductor gas sensor which is cheap, portable and simple in use and has a high sensitivity and an excellent selectivity, has been known as an alternative. In the present study, ITO ($In_2O_3 95%,;SnO_2$ 5%) thin films were deposited on the alumina substrate by using R.F. magnetron sputtering method. The substrate temperature was 300$^{circ}C$ and 500$^{circ}C$, respectively and then some specimens were annealed at 500$^{circ}C$ for 4h in air. ITO gas-sensing films formed crystallines before and after annealing. As results of gas sensitivity measurements to an ozone gas, the sensor deposited at 300$^{circ}C$ and then annealed has the highest sensitivity (sensible below 1 ppm). As the operating temperature increased gradually, the sensitivity decreased but the response time and stability improved.