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과냉도 및 기판회전조건 변화에 따른 YIG 단결정 후막의 성장
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  • 과냉도 및 기판회전조건 변화에 따른 YIG 단결정 후막의 성장
저자명
김용탁,윤석규,김근영,임영민,장현덕,윤대호,Kim. Yong-Tak,Yoon. Seok-Gyu,Kim. Geun-Young,Im. Young-Min,Jang. Hyun-Duck,Yoon. Dae-Ho
간행물명
한국세라믹학회지
권/호정보
2002년|39권 5호|pp.498-502 (5 pages)
발행정보
한국세라믹학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

Liquid Phase Epitaxy(LPE)법을 사용하여 SGGG(111) 기판 위에 $PbO/B_2O_3$를 융제로 Yttrium Iron Garnet($Y_3Fe_5O_{12}$, YIG) 후막을 성장하였다. 기판 회전속도와 과냉도 등의 성장변수가 YIG 후막의 결정성, 화학조성 그리고 성장속도에 미치는 영향에 대하여 고찰하였다. 성장온도가 860~910${circ}C$까지 증가함에 따라 막의 FWHM 값은 감소하였고, 성장오도 910${circ}C$, 120rpm의 시편회전속도에서 $60{mu}m/h$ 이상의 높은 성장률을 나타내었다.

기타언어초록

Pure-yttrium iron garnet($Y_3Fe_5O_{12}$2, YIG) thick films were grown from a $PbO/B_2O_3$ flux onto (111) SGGG substrate using liquid phase epitaxy. The effect of substrate rotation speed and supercooling on crystallinity, chemical composition and growth rate of the thick films was investigated. The FWHM of films decreased with increasing of growth temperature from 860 to 910${circ}C$. A substrate rotation speed of 120 rpm at 910${circ}C$ lead to growth rates up to $60{mu}m/h$.