라인 소스에 의한 빔 패턴 합성 문제에서 소스 분포함수와 빔 패턴간의 관계는 푸리에 변환쌍으로 표현 될 수 있다. 본 연구에서는 원하는 lobe형 빔 패턴을 만족시키는 라인 소스 분포함수를 반복 샘플링을 통한 비선형 역변환법을 사용하여 합성하는 일반적인 방법을 제안한다. 이 방법은 유전 매질에 TE 및 TM 평면파 입사시 원하는 역산란 반사계수를 갖도록 하는 연속적으로 분포된 유전율 합성에 적용될 수 있으며, 임의 반사계수를 갖는 전송선로 합성에도 적용될 수 있는 장점을 가진다. 대역저지 공간 필터 및 분산 특성을 갖는 전송선로 필터에 적용, 분석하므로서 제안한 방법의 타당성을 보인다.
In the beam pattern synthesis problem using line source, the relationship between source distribution function and beam pattern may be represented by Fourier transform pair. In this paper, a general method to synthesize the line source distribution for a desired lobe-like beam pattern is presented by developing the nonlinear inversion method based on an iterative sampling technique. This method can be applied to the synthesis of continuously distributed dielectric constants satisfying the desired inverse scattering coefficient patterns when illuminating by TE-polarized and TM-polarized plane waves to arbitrary dielectric material. Furthermore this method can also be applied to the synthesis of transmission line with arbitrary reflection coefficient patterns. Some bandstop spatial filter and dispersive transmission line filter are illustrated for generality.
