기관회원 [로그인]
소속기관에서 받은 아이디, 비밀번호를 입력해 주세요.
개인회원 [로그인]

비회원 구매시 입력하신 핸드폰번호를 입력해 주세요.
본인 인증 후 구매내역을 확인하실 수 있습니다.

회원가입
서지반출
Study on Residual Stress in Viscoelastic Thin Film Using Curvature Measurement Method
[STEP1]서지반출 형식 선택
파일형식
@
서지도구
SNS
기타
[STEP2]서지반출 정보 선택
  • 제목
  • URL
돌아가기
확인
취소
  • Study on Residual Stress in Viscoelastic Thin Film Using Curvature Measurement Method
  • Study on Residual Stress in Viscoelastic Thin Film Using Curvature Measurement Method
저자명
Im. Young-Tae,Park. Seung-Tae,Park. Tae-Sang,Kim. Jae-Hyun
간행물명
KSME international journal
권/호정보
2004년|18권 1호|pp.12-19 (8 pages)
발행정보
대한기계학회
파일정보
정기간행물|ENG|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
서지반출

기타언어초록

Using LSM (laser scanning method) , the radius of curvature due to thermal deformation in polyimide film coated on Si substrate is measured. Since the polyimide film shows viscoelastic behavior, i.e., the modulus and deformation of the film vary with time and temperature, we estimate the relaxation modulus and the residual stresses of the polyimide film by measuring the radius of curvature and subsequently by performing viscoelastic analysis. The residual stresses relax by an amount of 10% at 100$^{circ}C$ and 20% at 150$^{circ}C$ for two hours.