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AFM을 이용한 PMMA (Poly Methyl Methacrylate) 박막의 나노트라이볼로지 연구
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  • AFM을 이용한 PMMA (Poly Methyl Methacrylate) 박막의 나노트라이볼로지 연구
저자명
김승현,김용석
간행물명
소성가공
권/호정보
2004년|13권 1호|pp.59-64 (6 pages)
발행정보
한국소성가공학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

Nano-scratch tests were performed on PMMA thin films spin-coated on a Si substrate using an atomic force microscopy (AFM) with loads ranging form 10nN to 100nN. At low loads, a ridge pattern was formed on the PMMA thin film surface. No wear particles were observed during the pattern-forming mild wear. At high loads, severe wear by plowing occurred, accompanied by wear particles. The film with the highest hardness showed the highest wear resistance. Friction force generated during the scratching was measured, which was closely related with surface deformation of the film. A simple empirical equation to deduce scratch hardness of the film from a linear fixed-distance scratch test was proposed, and scratching-speed dependency of the scratch hardness was displayed.