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Tailoring the Static Characteristics of Implanted VCSELs with the Implant and Metal Aperture Radii
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  • Tailoring the Static Characteristics of Implanted VCSELs with the Implant and Metal Aperture Radii
  • Tailoring the Static Characteristics of Implanted VCSELs with the Implant and Metal Aperture Radii
저자명
Kim. Tae-Yong,Kim. Sang-Bae,Park. Bun-Jae,Son. Jeong-Hwan
간행물명
電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체
권/호정보
2004년|41권 7호|pp.37-41 (5 pages)
발행정보
대한전자공학회
파일정보
정기간행물|ENG|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

We have formulated an empirical analytic model for the static characteristics of implanted vertical-cavity surface-emitting lasers (VCSELs). Specifically, we have derived analytic formulas for the threshold current, slope efficiency, dynamic resistance, and the output power and forward voltage at the operation current of 12 ㎃ in terms of the implant and metal-aperture radii by fitting the measured results. The radii of the metal aperture and implant mask of the 850 nm VCSELs range from 4 to 12.5 ${mu}{ extrm}{m}$ and 7 to 17.5 ${mu}{ extrm}{m}$ respectively. The model shows the way of tailoring the VCSEL characteristics by changing the mask dimensions only.