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Oxide층의 두께와 위치 조절을 통한 oxido-VCSEL의 단일모드 동작반경 확장
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  • Oxide층의 두께와 위치 조절을 통한 oxido-VCSEL의 단일모드 동작반경 확장
저자명
김남길,김상배
간행물명
電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체
권/호정보
2004년|41권 9호|pp.31-37 (7 pages)
발행정보
대한전자공학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

oxide 층의 위치와 두께 조절을 통하여 oxide-VCSEL이 단일모드로 동작하는 활성영역의 반경을 확장하는 방법을 Self-consistent effective-index 방법을 이용하여 제시하였다. 이렇게 활성영역이 넓어지면 고속, 고신뢰도, 고출력 동작에 유리한 단일모드 VCSEL을 만들 수 있게 된다. 고출력을 위하여 단일모드로 동작하는 활성영역을 확대하는 방법을 하면 다음과 같다. 첫째 oxide 층은 활성층에서 멀리 떨어진 곳에 위치시켜야 한다 둘째, oxide 층은 얇게 만들어야 한다. 셋째, oxide층을 node에 위치시켜야 한다. 그리고 고출력을 위하여 p-DBR 쌍의 수를 줄이는 것은 단일모드 동작조건을 변화시키지 않는다. 이 방법을 사용하면 단일모드로 동작하는 oxide-aperture 크기를 3m% 이상 키울 수 있다.

기타언어초록

We have proposed a design methodology for large active-area single-mode VCSELS, which have higher reliability and output power, and are well-suited for high-speed operation. The key idea underlying the design methodology is to reduce the effective index difference between active and cladding regions by controlling the thickness and position of the oxide layer. The idea is confirmed by the self-consistent effective index method. By placing the oxide layer position properly, we can increase the radius of the oxide aperture for single-mode operation by 3 times.