무수붕산(B$_2$O$_3$)과 활성탄소를 사용하여 질소 분위기에서 육방정 질화붕소(h-BN)을 합성할 때 그 생성조건 및 반응과정을 검토하였다. 육방정 질화붕소의 생성조건은 140$0^{circ}C$ 이상에서 질화붕소가 합성되기 시작하여 155$0^{circ}C$에서는 대부분의 합성이 이루어졌고, 그 이상의 온도에서는 생성이 크지 않았음이 확인되었다. 합성된 질화붕소의 입자 형상은 미세한 판상 결정을 나타내었다. 반응 과정은 무수붕산이 탄소에 의하여 환원되어 붕소로 기화됨과 동시에 공존하는 질소 가스와 반응하여 육방정 질화붕소로 합성되는 반응 경로를 따를 것으로 사료된다.
This study has been undertaken with objective of studying the mechanism and condition of formation of hexagonal boron nitride from reduction of boric okide in the presence of carbon under nitrogen atmosphere. It was found that the formation of hexagonal boron nitride was started at 1400$^{circ}C$ and almost completed its conversion at 1550$^{circ}C$. The morphology of boron nitride synthesized in this study was very fine and platelet. It was considered as reaction pathway of hexagonal boron nitride that boron oxide was reduced to born and evaporated by activated carbon, and then it was reacted with nitrogen.
