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A High Voltage NMOSFET Fabricated by using a Standard CMOS Logic Process as a Pixel-driving Transistor for the OLED on the Silicon Substrate
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  • A High Voltage NMOSFET Fabricated by using a Standard CMOS Logic Process as a Pixel-driving Transistor for the OLED on the Silicon Substrate
  • A High Voltage NMOSFET Fabricated by using a Standard CMOS Logic Process as a Pixel-driving Transistor for the OLED on the Silicon Substrate
저자명
Lee. Cheon-An,Jin. Sung-Hun,Kwon. Hyuck-In,Cho. Il-Whan,Kong. Ji-Hye,Lee. Chang-Ju,Lee. Myung-Won,Kyung. Jae-Woo,Lee. Jong-Duk,P
간행물명
Journal of information display
권/호정보
2004년|5권 1호|pp.28-33 (6 pages)
발행정보
한국정보디스플레이학회
파일정보
정기간행물|ENG|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

A high voltage NMOSFET is proposed to drive top emission organic light emitting device (OLED) used in the organic electroluminescent (EL) display on the single crystal silicon substrate. The high voltage NMOSFET can be fabricated by utilizing a simple layout technique with a standard CMOS logic process. It is clearly shown that the maximum supply voltage ($V_{DD}$) required for the pixel-driving transistor could reach 45 V through analytic and experimental methods. The high voltage NMOSFET was fabricated by using a standard 1.5 ${mu}m$, 5 V CMOS logic process. From the measurements, we confirmed that the high voltage NMOSFET could sustain the excellent saturation characteristic up to 50 V without breakdown phenomena.