입자크기가 수 nm인 고농도 은 나노 졸을 이용하여 잉크젯 기법으로 은 미세라인을 형성하고자 하였다. 고분자전해질을 사용하여 합성한 $10wt\%$ 농도의 은 나노 졸의 입자크기는 10nm 이하였으며, 은 나노 졸을 이용한 미세 라인의 인쇄특성은 은 나노 졸의 접촉각에 매우 깊은 관계를 갖고 있었다. 순수한 ITO 기판에서 은 나노 졸은 높은 접촉각을 나타내었으며, dot 형상이 나타났다. 그러나 100ppm의 Polyethylenimine(PEI)을 코팅한 ITO 기판은 젖음성이 크게 개선되었으며, 잉크젯 기법을 이용하여 $60~100{mu}m$의 선폭을 갖는 은 나노 졸의 미세라인 형성이 가능함을 확인할 수 있었다.
We have studied the fabrication of silver micro lines using the silver nano sol on ITO substrate by an ink-jet method. The average particles size of $10wt\%$ silver nano sol synthesized with polyelectrolytes was smaller than 10 nm. The pattern formation of silver nano sol on the substrate closely related with the contact angle of the silver nano sol. The dot shaped of silver nano sol on bare ITO substrate was formed due to the high contact angle of silver nano sol. When ITO substrates was treated with 100 ppm polyethylenimine for silver nano sol patterning, fine silver micro lines of $60~100{mu}m$ width was fabricated by ink-jet method.
