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High Dose $^{60}Co;{gamma}$-Ray Irradiation of W/GaN Schottky Diodes
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  • High Dose $^{60}Co;{gamma}$-Ray Irradiation of W/GaN Schottky Diodes
  • High Dose $^{60}Co;{gamma}$-Ray Irradiation of W/GaN Schottky Diodes
저자명
Kim. Jihyun,Ren. F.,Schoenfeld. D.,Pearton. S.J.,Baca. A.G.,Briggs. R.D.
간행물명
Journal of semiconductor technology and science
권/호정보
2004년|4권 2호|pp.124-127 (4 pages)
발행정보
대한전자공학회
파일정보
정기간행물|ENG|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

W/n-GaN Schottky diodes were irradiated with $^{60}Co;{gamma}-rays$ to doses up to 315Mrad. The barrier height obtained from current-voltage (I-V) measurements showed minimal change from its estimated initial value of ${sim}0.4eV$ over this dose range, though both forward and reverse I-V characteristics show evidence of defect center introduction at doses as low as 150 Mrad. Post irradiation annealing at $500^{circ}C$ increased the reverse leakage current, suggesting migration and complexing of defects. The W/GaN interface is stable to high dose of ${gamma}-rays$, but Au/Ti overlayers employed for reducing contact sheet resistance suffer from adhesion problems at the highest doses.