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반도체 장비의 변형 진단을 위한 shearographic system의 이론적 고찰 및 위상오차해석
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  • 반도체 장비의 변형 진단을 위한 shearographic system의 이론적 고찰 및 위상오차해석
  • Theoretical analysis and Phase Error Analysis of the Shearographic System for the Deformation Evaluation of Semiconductor Equipment
저자명
김수길,홍선기,Kim. Soo-Gil,Hong. Sun-Ki
간행물명
반도체및디스플레이장비학회지
권/호정보
2005년|4권 1호|pp.17-21 (5 pages)
발행정보
한국반도체및디스플레이장비학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

We presented a new method to obtain four speckle interferograms with relative phase shift of $pi$/2 by passive devices such as waveplate and polarizer, calculate the phase at each point of the speckle interferogram in shearography using Wollaston prism, which can be applied to the deformation evaluation of semiconductor devices, and theoretically demonstrated the feasibility of the proposed method by Jones matrix.