0.8wt.% C과 $0.75{sim}3.2$(0.75, 1, 1.26, 1.44, 1.89, 2.1, 2.46, 2.94, 3.22)wt.% Si을 함유한 고탄소 고실리콘 강에서 Si의 함량이 미세조직과 processing window에 미치는 영향에 대해 조사하였다. 열처리는 $940^{circ}C$에서 1시간 동안 오스테나이징을 실시한 후, $320^{circ}C$에서 $0.2{sim}300$분 동안 오스템퍼링을 하였다. 미세조직에서, 0.75 wt.% Si을 함유한 강에서 국부적으로 오스페라이트(ausferrite)가 존재하는 것을 확인하였다. Processing window는 경도 및 XRD 측정으로 결정하였다. $t_{1}$은 Si의 함량이 2.5 wt.% 이하에서는 거의 변화가 없다가,2.5 wt.% 이상에서는 감소하는 결과를 보였다. 반면, $t_{2}$는 Si의 함량이 증가함에 따라 연속적으로 증가하였다. 즉, 0.8 wt.% C을 함유한 강에서 processing window는 Si의 함량이 약 2.5 wt.%일 때 열렸다.