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Annealing에 의한 나노구조 박막의 전기적 특성 연구
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  • Annealing에 의한 나노구조 박막의 전기적 특성 연구
저자명
고태준,Kouh. Tae-Joon
간행물명
韓國磁氣學會誌
권/호정보
2006년|16권 1호|pp.98-101 (4 pages)
발행정보
한국자기학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

결정립으로 이루어 진 나노구조 Pb 박막의 전기적 특성을 정상 면저항 측정을 통하여 연구하였다. 나노구조 박막은 저온 상의기판 위에 10nm이하의 두께로 증착되었으며, 1.3K부터 상온까지 박막의 온도를 변화시키면서 정상 면저항의 변화를 측정하였다. 열처리 온도에 따라 정상 면저항은 비 단조적하며 비가역적인 변화를 보였으며, 이러한 변화들은 열처리에 따른 나노구조 박막을 구성하고 있는 Pb 결정립의 크기변화로써 이해할 수 있다.

기타언어초록

Electron transport properties of nanostructured Pb thin film, consisting of grains, have been studied. Nanostructured thin films were fabricated on a substrate held at low temperature and their thicknesses were less than 10nm. While temperature of the film increased from 1.3 K to room temperature, the change in normal state sheet resistance has been measured. As the annealing temperature varies, the normal state sheet resistance shows a non-monotonic and irreversible change. Such behavior can be understood with the Pb grain growth due to annealing of the film.