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펄스형 방전플라스마에서 발생하는 X선 측정
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  • 펄스형 방전플라스마에서 발생하는 X선 측정
저자명
최운상,문병연,곽호원,Choi. Woon-Sang,Moon. Byeong-Yeon,Kwak. Ho-Won
간행물명
한국안광학회지
권/호정보
2006년|11권 4호|pp.311-315 (5 pages)
발행정보
한국안광학회
파일정보
정기간행물|
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주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

플라스마 포커스장치에서 방사되는 전자기파 중에서 X선에 대한 특성을 조사하였다. X선 측정은 pin 포토다이오드와 0.5mm 핀홀카메라로 이루어졌으며, X선 이외의 전자기파를 차폐하기 위해 $25{mu}m$ 베리륨박막을 사용하였다. X선 발생조건은 방전전압이 15kV이었고, 아르곤 기체압력은 0.12torr 이었다. X선 발생의 재현성이 조사되었고, 방사되는 X선의 온도는 3keV 이상이었다.

기타언어초록

We investigated X-ray radiated from the pulsed Plasma Focus device that translated from electric energy into electromagnetic wave by electric discharge. X-ray radiation is analysed by using pin photodiode and 0.5mm pinhole camera shielded by $25{mu}m$ Be. The condition of X-ray radiation was that the discharging voltage was 15 kV and the working gas were 0.12 torr Argon. Reproducibility of X-ray radiation is investigated and X-ray temperature is calculated above 3keV.