일반적으로 광 간섭 계측은 비접촉, 고감도, 면계측, 내전자(耐電磁) 노이즈 등 다른 계측방법에는 보이지 않는 우수한 장점을 가지고 있는 반면, 공기 흔들림이나 외부 진동 등의 외란에 약하여 광학 조정이 번거로우며 측정 범위가 좁다는 문제점도 있어, 아직까지는 산업적으로 충분히 보급되고 있지 않은 것이 현실이다. 여기서는 옵토 메카트로닉스 기술로서의 광 간섭 계측 기술이 상기 문제점을 극복하면서, 앞으로 어떻게 발전해 나갈 것인 지를 예측하여 기술 로드맵의 작성을 시도하였다. 기술 로드맵은 반도체 산업에서는 본격적인 것으로 정평이 나있지만, 광 간섭 계측 기술에 대한 것은 거의 없다. 따라서, 여기서 채택한 기술과 그 미래에 대해서는 필자의 경험과 주관이 상당히 많이 개입되어 있음을 미리 말해 둔다.