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비대칭 마크네트론 스퍼터링을 이용한 이리듐 산화물 박막의 합성과 전기 화학적 특성분석
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  • 비대칭 마크네트론 스퍼터링을 이용한 이리듐 산화물 박막의 합성과 전기 화학적 특성분석
저자명
김성대,김상식,송진호,Kim. Sung-Dae,Kim. Sang-Sik,Song. Jin-Ho
간행물명
한국표면공학회지
권/호정보
2007년|40권 5호|pp.203-208 (6 pages)
발행정보
한국표면공학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

Preliminary studies were conducted to develop a dimensionally stable anode (DSA)electrode prepared by reactive sputtering method. The microstructure, surface morphology and electrochemical properties of iridium oxide $(IrO_2)$ coatings synthesized by unbalanced magnetron sputtering (UBMS) and conventional DSA electrode were compared. In addition, the possibilities of $IrO_2$ films synthesized by UMB on a real DSA electrode were investigated by electro-chemical application test. The degree of non-stoichiometry and surface area were closely related to the electro-chemical activity of the $IrO_2$ electrode. The feasibility of making a DSA electrode prepared by PVD technique was demonstrated through the present work.