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에어로졸 데포지션법으로 성막된 Al2O3 후막의 유전특성
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  • 에어로졸 데포지션법으로 성막된 Al2O3 후막의 유전특성
저자명
박재창,윤영준,김효태,구은회,남송민,김종희,심광보,Park. Jae-Chang,Yoon. Young-Joon,Kim. Hyo-Tae,Koo. Eun-Hae,Nam. Song-Min,Kim. Jong-Hee,Shim. Kwang-B
간행물명
한국세라믹학회지
권/호정보
2008년|45권 7호|pp.411-417 (7 pages)
발행정보
한국세라믹학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

Aerosol Deposition Method (ADM) is a novel technique to grow ceramic thick films with high density and nano-crystal structure at room temperature. $^{1,2)}$ For these unique advantages of ADM, it would be applied to the fabrication process of 3-D integration ceramic modules effectively. However, it is critical to control the properties of starting powders, because a film formation through ADM is achieved by impaction and consolidation of starting powders on the substrates. We fabricated alumina thick films by ADM for the application to integral substrates for RF modules. When the as-received alumina powders were used as a starting material without any treatments, it was observed that the dielectric properties of as-deposited alumina films, such as relative permittivity and loss tangent, showed high dependency on the frequency. In this study, some techniques of powder pre-treatments to improve the dielectric properties of alumina thick films will be shown and the effects of starting powders on the properties of AD films will be discussed.