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초고밀도집적반도체 장비의 송풍형 정전기 제거 장치 개발
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  • 초고밀도집적반도체 장비의 송풍형 정전기 제거 장치 개발
저자명
이종호,전성호,Yi. Chong-Ho,Jun. Sung-Ho
간행물명
電子工學會論文誌. Journal of the institute of electronics engineers of Korea. IE. 산업전자
권/호정보
2009년|46권 3호|pp.26-32 (7 pages)
발행정보
대한전자공학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

반도체 산업에서, 웨이퍼가 오염되는 불량률 원인의 70%는 웨이퍼 자체의 대전이다. 본 논문은 기존의 고전압을 이용한 코로나 방전식의 송풍형 정전기 제거장치를 개발하였다. 이 시스템은 방전 침 세정 기능을 자동으로 구현하여 균형하게 이온을 방출하도록 하였고, 이온 방출 상태를 감지하여 최적의 이온량을 조절하도록 하였으며, Zigbee 통신모듈을 이용하여 전 시스템을 모니터링하도록 하였다.

기타언어초록

The reason of the contamination in the VLSI industry is the electric charge of the wafer itself. We develop the corona discharged system of clearing static electricity with a fan. This system has automatic cleaner of discharging electrode, check the state of jot control a suitable mount of discharged ion, and monitor all state using Zigbee communication module.