질소 도핑된 $WO_3$ ($WO_3$:N) 막을 반응성 RF 마그네트론 스퍼터링을 이용하여 상온에서 증착한 다음, $300^{circ}C$에서부터 $500^{circ}C$의 온도 구간에서 후열처리(post-annealing)하였다. $WO_3$ 내 질소 음이온은 O 2p valence state와의 mixing effect 의해 광학적 밴드갭을 줄임으로써 장파장 영역의 빛을 흡수할 수 있었다. 더욱이 $350^{circ}C$ 이상의 후열처리에 의해 $WO_3$:N의 결정성이 크게 향상됨을 발견하였으며, 동일 온도에서 열처리된 순수한 $WO_3$ 막보다 광전기화학 특성이 휠씬 우수한 셀 성능을 가짐을 알 수 있었다.
N-incorporated $WO_3$ ($WO_3$:N) films were synthesized using a reactive RF magnetron sputtering on unheated substrate and then post-annealed at different temperatures from 300 to $500^{circ}C$ in air. The N anion narrowed optical band gap, due to its mixing effect with the O 2p valence states. Furthermore, it was found that the crystallinity of the $WO_3$:N films was significantly improved by the post-annealing at $350^{circ}C$ and higher. As a result, the $WO_3$:N films exhibited much better photoelectrochemical performance, compared with pure $WO_3$ films post-annealed at the same temperature.
