- 기술리포트 II - 초정밀가공기술로서의 CMP 기술과 그 응용분야
- ㆍ 저자명
- 도시로,쿠로가와슈헤이,우메자키요우지,코시야마이사무
- ㆍ 간행물명
- 광학세계
- ㆍ 권/호정보
- 2009년|119권 6호|pp.60-64 (5 pages)
- ㆍ 발행정보
- 한국광학기기협회
- ㆍ 파일정보
- 정기간행물| PDF텍스트
- ㆍ 주제분야
- 기타
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최근 전자 광정보통신시스템의 급속한 고성능화 다기능화로 상징되는 것처럼, 기능성 재료의 물성을 십분 발휘하여 초고성능부품을 제조하기 위해서는 초정밀가공기술이 필수이다. 여기에서 말하는 초정밀가공조건에는 통상, 무료란(결정공학적으로 원자배열에 교란이 없는)경면, 게다가 나노미터오더의 형상정도여야 하는 것이 대전제가 된다. 본 고에서는 초정밀가공기술을 구사한 가공공정 중에서, 가장 미세한 가공면을 얻을 수 있는 유리지립 가공의 초정밀폴리싱/CMP기술과 그 응용사례에 관해 서술한다.