본 연구에서는 유동상 반응기를 이용하여 고농도의 질소, 인 및 불소가 동시에 존재하는 반도체 폐수 내 불소 처리시 불소 제거효율 향상, 함수율 저감 및 생성 슬러지($CaF_2$)의 순도 향상을 꾀하고자 하였다. 이를 위해 pH 및 seed 주입량, 유출수의 순환여부에 따른 영향을 살펴본 결과 유출수 재순환 시 불소제거효율, 슬러지 순도 및 함수율을 모두 고려할 경우 최적의 pH는 5, seed 주입량은 150 g으로 관찰되었다. 이때의 불소 및 인 제거효율은 94.24 및 8.97%로 나타났고, 함수율은 12.94%로 확인되었다. Seed 주입량의 증가는 불소제거효율을 증가시킬 뿐만 아니라 유출수 재순환 및 pH 변동에 따른 불소제거효율 감소도 억제시키는 것으로 나타났다.
The optimum condition for fluoride removal, water content reduction, and $CaF_2$ purity was determined in treating semiconductor waste water in which ammonia nitrogen, phosphorus, and fluoride are existed simultaneously using a fluidized bed reactor. Effects of pH, seed dosage, and recirculation of treated water were investigated through lab-scale experiments. Considering fluoride removal, sludge purity, and water content, that pH 5 and seed dose of 150 g were found to be optimum. Correspondingly, removal of fluoride and phosphate (${PO_4}^{3-}$-P) was 94.24% and 8.97%, respectively, with water content ratio of 12.94%. Increase in an amount of seed dosage not only enhance fluoride removal efficiency, but also buffer fluoride removal-reducing effect due to the variation of recirculation ratio of treated water and pH.
