반도체 설계기술의 발달로 구현 회로가 복잡해지고, 동작속도가 크게 증가함에 따라, 반도체 이후 (post-silicon) 설계 단계에서 repair를 위한 기간 및 비용이 크게 증가하고 있다. 본 논문에서는 예비 셀을 이용한 repair 방법을 통해 설계 오류로 인한 repair시 혹은 설계 변경 시에 전체 재설계를 최소화하는 방법을 제안하였다. 또한 예비 셀을 이용한 설계 변경 과정에서 repair layer에 설계 변경을 국한하여 mask 비용과 time-to-market을 줄이는 방법을 개발하였다. 또한 회로 분할을 통해 repair 과정에서 사용하는 예비회로의 비용을 줄일 수 있도록 한다.
As the complexity and the clock speed of semiconductor integrated circuits increase, silicon validation becomes important. In this research, we developed new post-silicon repair & revision techniques to reduce cost and time-to-market. Spare cells are fabricated with the original design and are used for repair when necessary. The interconnections are modified by repair layer revision. The repair cost can be reduced by logic partitioning. Experimental results show that these techniques are effective for low-cost and fast turnaround repair.
