이 논문에서 광방출 분석법을 응용하여 반응용기 내부 오염과 특정 파장 크기변화의 관계를 알아보았다. 광방출 분석법을 이용하면 $O_2$ 플라즈마에서 폴리머가 제거되는 것이 관찰된다. 하지만 광방출 분석법은 외부영향에 의한 노이즈로 분석이 힘들며 다양한 조건에서의 폴리머 제거 상태를 비교하는 건 쉽지 않다. 이를 해결하고자 diff_CO 함수를 정의하고, 여러 경우에서의 diff_CO 함수 변화를 확인하였다. diff_CO 함수는 RF 인가시간이 증가함에 따라 최대값의 크기 감소와 작은 꼭지점 개수의 증가를 관찰할 수 있으며, 이를 이용하면 반응용기를 열지 않고도 반응용기 내부 오염정도를 파악하여 반응용기 세정 시점을 정할 수 있었다.
In this paper, the relationship of chamber contamination and the intensity change of specific wavelength was investigated. "diff_CO" formula was introduced to rule out background noise caused by external conditions and to detect when the polymer is removed from the chamber. As RF time increased, diff_CO trend showed the decrease of the maximum peak and increased number of small intensity peaks. From the diff_CO change, it was possible to determine when the chamber needs to be cleaned without opening the chamber.
