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사파이어 웨이퍼의 ELID 랩핑 가공 특성에 관한 연구
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  • 사파이어 웨이퍼의 ELID 랩핑 가공 특성에 관한 연구
저자명
곽태수,한태성,정명원,김윤지,우에하라 요시히로,오오모리 히토시,Kwak. Tae-Soo,Han. Tae-Sung,Jung. Myung-Won,Kim. Yunji,Uehara. Yosihiro,Ohmori. Hitoshi
간행물명
한국정밀공학회지
권/호정보
2012년|29권 12호|pp.1285-1289 (5 pages)
발행정보
한국정밀공학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

This study has been focused on application of ELID lapping process for mirror-surface machining of sapphire wafer. Sapphire wafer is a superior material with optic properties of high performance as light transmission, thermal conductivity, hardness and so on. High effective surface machining technology is necessary to use sapphire as various usages. The interval ELID lapping process has been set up for lapping of the sapphire material. According to the ELID lapping experimental results, it shows that 12.5 kg of load for lapping is most pertinent to ELID lapping. the surface of sapphire can be eliminated by metal bonded wheel with micron abrasives and the surface roughness of 60 nmRa can be gotten using grinding wheel of 2,000 mesh in 4.5 um, depth of cut. In this study, the chemical experiments after ELID grinding also has been conducted to check chemical reaction between workpiece and grinding wheel on ELID grinding process. It shows that the chemical reaction has not happened as the results of the chemical experiments.