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Scaling Accuracy Analysis of Substrate SPICE Model for RF MOSFETs
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  • Scaling Accuracy Analysis of Substrate SPICE Model for RF MOSFETs
  • Scaling Accuracy Analysis of Substrate SPICE Model for RF MOSFETs
저자명
이현준,이성현,Lee. Hyun-Jun,Lee. Seonghearn
간행물명
Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea
권/호정보
2012년|49권 12호|pp.173-178 (6 pages)
발행정보
대한전자공학회
파일정보
정기간행물|ENG|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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영문초록

RF 직접 추출 방법을 통해 얻은 정확한 MOSFET 기판 파라미터를 이용하여 기판저항만을 가진 BSIM4 모델은 스케일링 부정확성 때문에 넓은 영역의 게이트 길이에 적용하기에는 물리적으로 맞지 않다는 것이 증명됐다. BSIM4의 비물리적인 문제점을 제거하기 위해서 추가적인 유전체 기판 캐패시터를 가진 수정된 BSIM4 모델이 사용되었고, 이 모델의 물리적 타당성은 우수한 게이트 길이 scalability를 관찰함으로써 증명되었다.

기타언어초록

Using accurate MOSFET substrate parameters obtained by a RF direct extraction method, it is demonstrated that a BSIM4 model with only substrate resistances is not physically valid to apply in the wide range of gate length because of scaling inaccuracy. In order to remove the unphysical problem of the BSIM4, a modified BSIM4 model with additional dielectric substrate capacitance is used and its physical validity is verified by observing excellent gate length scalability.